文章分類 / Article Cate
行業新聞 新聞資訊
聯系方式 / Contact Us
寶雞市秦灝有色金屬有限公司
郵箱:[email protected]
電話:86-0917-3384086
傳真:86-0917-3381708
網址:http://www.tlunc.tw
地址:陜西省寶雞市渭濱區寶鈦路
  南段10號
首頁 > 技術支持
   
 
訪問次 2018-11-07 12:11:33
 

性能要求

靶材的主要性能要求:

純度

純度是靶材的主要性能指標之一,因為靶材的純度對薄膜的性能影響很大。不過在實際應用中,對靶材的純度要求也不盡相同。例如,隨著微電子行業的迅速發展,硅片尺寸由6", 8"發展到12", 而布線寬度由0.5um減小到0.25um,0.18um甚至0.13um,以前99.995%的靶材純度可以滿足0.35umIC的工藝要求,而制備0.18um線條對靶材純度則要求99.999%甚至99.9999%。

雜質含量

靶材固體中的雜質和氣孔中的氧氣和水氣是沉積薄膜的主要污染源。不同用途的靶材對不同雜質含量的要求也不同。例如,半導體工業用的純鋁及鋁合金靶材,對堿金屬含量和放射性元素含量都有特殊要求。

密度

為了減少靶材固體中的氣孔,提高濺射薄膜的性能,通常要求靶材具有較高的密度。靶材的密度不僅影響濺射速率,還影響著薄膜的電學和光學性能。靶材密度越高,薄膜的性能越好。此外,提高靶材的密度和強度使靶材能更好地承受濺射過程中的熱應力。密度也是靶材的關鍵性能指標之一。

晶粒尺寸及晶粒尺寸分布

通常靶材為多晶結構,晶粒大小可由微米到毫米量級。對于同一種靶材,晶粒細小的靶的濺射速率比晶粒粗大的靶的濺射速率快;而晶粒尺寸相差較小(分布均勻)的靶濺射沉積的薄膜的厚度分布更均勻。


 
 
  上一篇:返回列表  
  下一篇:鈦的物理性能/化學性能  
 
返回首頁      Copyright © 2008 - 2012 寶雞市秦灝有色金屬有限公司 bjqhjs.com. All rights Reserved. 技術支持:藝帆工作室 陜ICP備12000750號
狗狗币官网下载app 今日上海快3开奖结果 炸金花235通吃吗 北京赛pk10公告 大透乐中奖结果 生肖彩票开奖结果查询 以前的电子游戏有哪些 最新双色球开奖结果 湖北快三彩经网 香港tm4特马分分析 新疆时时app下载 足球即时比分网90v 广东时时11选5结果 极速时时彩 七星彩怎么包才期期中 极速时时可以玩吗 黑杰克游戏下载